Оборудование для гальванопокрытия для полупроводниковых пластин A-52-ST-LAAS-SO

Обзор
Оборудование для нанесения покрытия на пластины (wafer), модель A-52-ST-LAAS-SO, тип интенсивной агитации, разработано совместно с LAAS (CNRS). Конфигурация на базе традиционной модели A-52 была адаптирована для снижения риска пролива жидкостей при высоких скоростях агитации, что обеспечивает более надежную работу в требовательных процессах нанесения покрытий. LAAS располагает техническими данными и результатами исследований по применению данного оборудования.

Партнёр
[Зарубежный технологический партнёр] LAAS - CNRS (French National Centre for Scientific Research)
Предоставлено CNRS и институтом LAAS, оба являются членами французской сети Renatech (по состоянию на февраль 2026 г.). LAAS (Laboratory for Analysis, Systems and Architectures) — исследовательский институт CNRS, расположенный в Тулузе, в составе подразделений INSIS и INS2I.

Характеристики / технические спецификации

• Модель: A-52-ST-LAAS-SO
• Тип: Оборудование для плакирования пластин (wafer), тип интенсивной агитации
• Разработка: Совместно с LAAS (CNRS)
• Конструкция: Меры, улучшенные для предотвращения пролива жидкости при высоких скоростях агитации
• Конфигурация: Основана на традиционной модели A-52